सक्रिय शीतलन डिज़ाइन: 6061 तापीय प्रबंधन लाभ

उत्पाद का नाम:	सक्रिय शीतलन डिज़ाइन: 6061 तापीय प्रबंधन लाभ
कीवर्ड:	6061 चेसिस
उद्योग:	औद्योगिक इलेक्ट्रॉनिक्स इलेक्ट्रीशियन - बैटरी उद्योग
शिल्प:	सतह का उपचार - एनोडाइजिंग
सामग्री:	अल्युमीनियम

प्रसंस्करण निर्माता

ऐसे 52 निर्माता हैं जो समान उत्पाद प्रदान करते हैं
ऐसे 155 निर्माता हैं जो यह प्रसंस्करण प्रौद्योगिकी प्रदान करते हैं
ऐसे 119 निर्माता हैं जो यह सामग्री प्रसंस्करण सेवा प्रदान करते हैं
ऐसे 152 निर्माता हैं जो इस उद्योग में प्रसंस्करण सेवाएं प्रदान करते हैं

मैं पूछताछ करना चाहता हूँ

उत्पाद विवरण

6061 चेसिस उच्च-घनत्व वाले फिन्स (दांतों की ऊँचाई का अनुपात 50% बढ़ा हुआ) बनाने के लिए शॉवल-टूथ प्रक्रिया का उपयोग करता है, और स्टैम्प्ड स्टील प्लेटों की तुलना में ऊष्मा अपव्यय क्षेत्र 40% बढ़ा है। लिक्विड कूलिंग प्लेट माइक्रोचैनल (दीवार की मोटाई 0.8 मिमी) के साथ, ऊष्मा अपव्यय शक्ति घनत्व 300W/cm² तक पहुँच जाता है, जिससे GPU सर्वर क्लस्टर के ओवरहीटिंग और डाउनटाइम की समस्या का समाधान होता है। सतह पर एनोडाइज्ड फिल्म ऊष्मा विकिरण अवशोषण दर को कम करती है, जो SPCC चेसिस के आंतरिक तापमान से 15°C कम है।

पिछला लेख : चरम वातावरण अनुकूलन: बाहरी कैबिनेट सामग्री रक्षा युद्ध

अगला लेख : संरचनात्मक शक्ति चुनौती: SPCC का भारी भार वहन समाधान